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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂座落西北沿海地区,主要制造8寸大半导体芯片晶圆,单日电镀废水污染物量约800吨。考虑到制造进程中利用非常多盐酸来进行晶圆蚀刻,影响电镀废水内氟化物渗透压将高达200-300mg/L,远超各国污染物规则(10mg/L如下)。 废渣成份及种类 生产废水主要是原于4个原则: 晶圆蚀刻多种工序 :含高氧浓度氟化物(HF)、氰化钠及极少量巨资属 化学式机械化拋光(CMP)废水处理 :含奈米级硅颗粒状、有机化学络合剂 设配擦拭化工废水 :含异丙醇、氟化物等有机质物 加工处理的工艺鑫霖环保流程 选用"药剂学滤渣+混凝土滤渣+深入油烟净化器"一级治理 整体: 4级办理 :污泥脱水氯化钙和氢空气氧化钙,转变成氟化钙放置,氟化物的还原率达85% 二级考试办理 :加入PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),出掉电解质溶液态空气污染物质 三级视频外理 :确认多物料过滤清洁器和亲水性炭吸咐,出水量氟化物溶度增强在8mg/L一些 关健设施设备分为:pH自行调理系统性、斜管沉淀出的池、板框过滤机(污泥处理脱水过滤)。 终极目的 投资项目正常运行一年数据资料统计数据资料界面显示: 氟化物年均含量:7.2mg/L(不低于地区标准规定) COD取除率:92% 淤泥含水量率:≤65% 年环保再生能源回收氟化钙副企业产品约150吨,构建能源化合理利用

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