某半导体技术创造企业的因晶圆洗制作工序制造含氨废气，的水量200吨/天。废气中除氯离子外还含氟化物和微量分析血本属，解决麻烦大。本地尾气排放规范标准规范标准需要氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水营养成分及源头 晶圆进行维护清洁化工废水（其主要来自）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序废气：含轻微铜、镍等血本属，pH值波动性大 CMP打磨化工废水：含硅颗料及高锰酸盐指数 补救工序程序流程 用于"化学反应沉淀自己+膜剥离+折点氯化"搭配加工： 预处置 ：加药CaCl2除氟，管理pH在7.5-8. 反渗透膜系统化 ：清除0.01μm及以上粉末物 反加入高浓 ：将氧化还原电位高浓至1000mg/L左右 折点氯化 ：准确度操作氯添加量，将氧化还原电位还原成为氦气 亚铁离子互换 ：服务保障天价属达到 终结成效 挥发酚相对稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属分子量少于检验限 水中水回用率达75% 工业废水导致量才能减少40%